PVD TECHNOGOLY

What is PVD ?

Physical vapor deposition (PVD) covers a broad family of vacuum coating processes in which the employed material is physically removed from a source or “target” by evaporation or sputtering.

Lắng đọng hơi vật lý (PVD) bao gồm một loạt các quy trình phủ chân không, trong đó vật liệu được sử dụng được giải phóng vật lý ra khỏi nguồn rắn  hoặc “điện cực” bằng cách bay hơi hoặc phún xạ.

Then, it is transported by the energy of the vapor particles and condensed as a film on the surfaces of appropriately placed parts, under vacuum. Chemical compounds are deposited either by using a similar source material or by introducing reactive gases (nitrogen, oxygen, or simple hydrocarbons) containing the desired surfactants, thus reacting with metal(s) from the PVD target. Most of the PVD processes are known by various phrases or acronyms, and they are typically named for the means for producing the physical vapor.

Sau đó, nó được vận chuyển bởi năng lượng của các hạt bay hơi và ngưng tụ như một lớp màng mỏng trên bề mặt của các bộ phận được đặt thích hợp, trong điều kiện chân không. Các hợp chất hóa học được lắng đọng bằng cách sử dụng  vật  liệu nguồn tương tự hoặc bằng cách đưa vào các khí phản ứng (nitơ, oxy hoặc hydrocacbon đơn giản) có chứa các chất hoạt động bề mặt mong muốn, do đó phản ứng với (các) kim loại từ điện cực PVD. Hầu hết các quá trình PVD được biết đến bằng nhiều cụm từ hoặc từ viết tắt khác nhau, và chúng thường được đặt tên cho các phương tiện sản xuất hơi vật lý.

The major categories are evaporation and sputtering. Evaporation can be resistive, inductive, electron beam, activated reactive evaporation, or arc evaporation (DC or alternate current (AC)). Sputtering can be diode or triode, ion beam, or magnetron sputtering, i.e., direct current (DC), radio frequency (RF), pulsed cathode, dual magnetron sputtering, or high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS or HIPIMS: high-power impulse magnetron sputtering). The high speed physical vapor deposition (HS-PVD), based on a hollow cathode glow discharge (HCD), presents a promising technology for the deposition of thick films (Bobzin et al. 2016). The hollow cathode effect ensures the generation of dense and highly ionized plasmas, which contribute to a high deposition rate of the coatings.

 Các loại chính là bay hơi và phún xạ. Sự bay hơi có thể là điện trở, cảm ứng, chùm điện tử, bay hơi phản ứng kích hoạt, hoặc bay hơi hồ quang (DC hoặc dòng điện thay thế (AC)). Phún xạ có thể là diode hoặc triode, chùm ion, hoặc phún xạ từ trường, tức là dòng điện một chiều (DC), tần số vô tuyến (RF), xung cực âm, phún xạ nam châm kép, hoặc phún xạ magnetron xung công suất cao (HPPMS hoặc HIPIMS: phún xạ xung magnetron Xung điện cao). Sự lắng đọng hơi vật lý tốc độ cao (HS-PVD), dựa trên sự phóng điện phát sáng catốt rỗng (HCD), trình bày một công nghệ đầy hứa hẹn để lắng đọng các màng dày (Bobzin et al. 2016). Hiệu ứng cathode rỗng đảm bảo tạo ra các plasmas dày đặc và bị ion hóa cao, góp phần vào tốc độ lắng đọng cao của các lớp phủ.

Công ty Cổ Phần PVD VIETCOAT

Đ/c : Số 455/9B , Đường DT743C  , Khu phố Chiêu Liêu, phường Tân Đông Hiệp,TP. Dĩ An,Bình Dương

Điện thoại : Hotline 0939.67.63.68 -   08.65.67.63.38 ( Sale) - 0906815697 (Mr Cường ).